Hjem > Produkter > Alloy Sputtering Target > Legering Planar Sputtering Target > Krom Aluminium Wolframlegering Sputtering Target
Krom Aluminium Wolframlegering Sputtering Target
  • Krom Aluminium Wolframlegering Sputtering TargetKrom Aluminium Wolframlegering Sputtering Target
  • Krom Aluminium Wolframlegering Sputtering TargetKrom Aluminium Wolframlegering Sputtering Target
  • Krom Aluminium Wolframlegering Sputtering TargetKrom Aluminium Wolframlegering Sputtering Target
  • Krom Aluminium Wolframlegering Sputtering TargetKrom Aluminium Wolframlegering Sputtering Target

Krom Aluminium Wolframlegering Sputtering Target

Senxiang (Ningbo) New Material Co., Ltd. er en førende Kina Chromium Aluminium Tungsten Alloy Sputtering Target producent, leverandør og eksportør. At overholde forfølgelsen af ​​perfekt kvalitet af produkter, så vores Chrom Aluminium Tungsten Alloy Sputtering Target er blevet opfyldt af mange kunder. Ekstremt design, kvalitetsråvarer, høj ydeevne og konkurrencedygtig pris er, hvad enhver kunde ønsker, og det er også det, vi kan tilbyde dig. Selvfølgelig er vores perfekte eftersalgsservice også afgørende. Hvis du er interesseret i vores Chromium Aluminium Tungsten Alloy Sputtering Target-tjenester, kan du kontakte os nu, vi vil svare dig i tide!

Send forespørgsel

Produkt beskrivelse

Chrom Aluminium Tungsten Alloy Sputtering Target er en type materiale fremstillet af højrent krom, aluminium og wolfram råmaterialer, som er omhyggeligt malet, blandet og højtemperaturpresset. Målmaterialet opnået ved denne metode har høj densitet, ensartet sammensætning og struktur, høj renhed og små korn. Belægningen opnået ved reaktiv sputtering under anvendelse af dette målmateriale har en glat overflade, hurtig afsætningshastighed og god vedhæftning til underlaget. Det kan påføres i belægningsfeltet for elektrodekontaktmaterialer og kan bruges til at fremstille tyndfilmmaterialer med høj hårdhed, højspændingsmodstand, lav afskæringsværdi og kan erstatte ren wolfram.


Produktparameter (specifikation)

Sammensætning CrAlW
Renhed 99,7 %, 99,9 %, 99,95 %, 99,99 %
Massefylde tilpasset
Urenhedsindhold 0,2 %
Maksimal OD Ifølge kunde
Maksimal længde Ifølge kunde
Maksimal størrelse L⤠2000 mm, W⤠200 mm
Produktions proces OM EFTERMIDDAGEN


Produktfunktion og applikation

Chrom Aluminium Tungsten Alloy Sputtering Target kan påføres i belægningsfelter såsom elektrodekontaktmaterialer for at fremstille tyndfilmmaterialer med høj hårdhed, højspændingsmodstand, lav afskæringsværdi og kan erstatte ren wolfram.


Produktdetaljer

Vores chrom-aluminium-wolframlegering-sputteringsmål er tydeligt mærket og mærket eksternt for at sikre effektiv identifikation og kvalitetskontrol. Der udvises stor omhu for at undgå enhver skade, der måtte opstå under opbevaring eller transport.


Hot Tags: Chrom Aluminium Tungsten Alloy Sputtering Target, Kina, Producent, Leverandør, Fabrik, Made in China, Customized

Relateret kategori

Send forespørgsel

Du er velkommen til at give din forespørgsel i nedenstående formular. Vi svarer dig inden for 24 timer.